什么是LPCVD？

日期：2024-08-11 11:25

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摘要：

LPCVD--Low Pressure Chemical Vapor Deposition 低压力化学气相沉积法用于氧化硅、氮化物、多晶硅沉积,过程在管炉中执行，要求也相当高的温度。

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